第395章 晶片製造彎道超車的希望

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員框架搭建起來。

晶圓製造沒有晶片製造那麼複雜，只有晶片製造才會使用到光刻機和蝕刻裝置，而晶圓製造並不需要，完全是兩碼事。

從2007年後，12英寸的晶圓是主流標準尺寸，即直徑約304.8毫米，指的是英制，不是米制一寸＝3.33厘米。

在2013年，主流晶圓尺寸還是12英寸，二流就是8英寸，也有開始研發18英寸，不過，哪怕到了2022年，沐陽也沒聽說18英寸投產，主要還是晶圓的良品率低問題。

當然，晶圓直徑越大越好，也是越難做，對裝置要求更高。

我們常聽說晶片工藝28nm，指ic內電路與電路之間的距離為28nm，肯定是越小肯定越好。

8寸晶圓的極限基本就是90nm，而我們所瞭解的28nm，14nm，7nm晶片工藝只能在12英寸晶圓上面做，這也是為什麼強調要生產12英寸晶圓。

華國晶圓生產龍頭代表是仲芯國際，2000年成立，在2009年時，一共有三家生產12英寸晶圓的工廠，只是說良品率比不上國際巨頭，晶片製造工藝水平方面，在2010年年底時已經實現65nm量產，目前，還沒實現28nm量產。

沐陽瞭解到的國內晶圓和晶片工藝技術水平情況暫時是這樣，這是他讓公司相關部門去調查收集到的資料，他要先了解國內外情況。

星海集團要搞晶圓生產，肯定是從12英寸晶圓開始，晶片工藝從28nm開始，否則就沒有進入這個行業的必要。

在後世，沐陽也瞭解過，晶片製造並不一定採用光刻機和蝕刻裝置，比如電子束光刻技術，精度上完爆了euv光刻技術，只是在2022年那會剛突破，沒法批次生產。

沐陽也查了一下，的確有電子束光刻技術，同樣沒法實現批次生產問題，但可以實驗室生產，用於量子計算機。

如果他打算商業化的話，目前還是得走光刻機這條線，等時機一到，可以採用電子束光刻技術，直接彎道超車，還用什麼狗屁光刻機。

這個時機，也許就是7級閱讀系統。

但就算可以使用電子束光刻技術生產10nm線寬以下工藝晶片，但商用市場上還並不用這麼尖端。

沐陽的預期是，哪怕精度低一些也可以，只要能量產，成本能降下來就可以了，不用去搞什麼狗屁光刻機了。

現在光刻機這條線的技術專利估計都被申請通了，就算星海集團能做出光刻機之類裝置又怎麼樣，如果不能繞過對方的專利覆蓋，如果對方不授權，他是沒法使用自己研發的光刻機生產。

除非，星海集團能夠繞開對方光刻機的專利覆蓋，這條路，太難走了。

指望對方授權專利，那不可能的，沐陽心裡莫名其妙就有一股憋屈感。

所以說，現在沐陽指望7級閱讀系統了。

離計劃升級7級閱讀系統，估計就能在年底實現。

目前也不急，先搞出晶圓再說。